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氧化鑭鈰稀土拋光液

氧化鑭鈰稀土拋光液產(chǎn)品特點(diǎn)：穩(wěn)定性高、分散性好、拋光速度快、磨削力強(qiáng)、無(wú)拋光缺陷、可循環(huán)使用。 應(yīng)用領(lǐng)域：該系列產(chǎn)品主要用于集成電路、半導(dǎo)體硅片、電子芯片等產(chǎn)品的拋光。

內(nèi)容介紹 / introduce
  氧化鑭鈰稀土拋光液的關(guān)鍵技術(shù)：公司采用合成濕法磨工藝制成高純度超細(xì)納米級(jí)鈰基稀土拋光粉，通過(guò)將高純度超細(xì)納米級(jí)鈰基稀土拋光粉液體化，按照相應(yīng)的比例和參數(shù)，物理合成適量的稀土元素，通過(guò)中和、壓縮、過(guò)濾、分級(jí)等工藝，使產(chǎn)品滿足不同拋光產(chǎn)品和材質(zhì)的要求。

  其產(chǎn)品性能：根據(jù)不同磨料和拋光產(chǎn)品，采用專用加工和配方，使產(chǎn)品表面的光潔度和光滑度達(dá)到技術(shù)要求，避免了拋光過(guò)程中的劃傷和缺陷。

  產(chǎn)品特點(diǎn)：穩(wěn)定性高、分散性好、拋光速度快、磨削力強(qiáng)、無(wú)拋光缺陷、可循環(huán)使用。

  應(yīng)用領(lǐng)域：該系列產(chǎn)品主要用于集成電路、半導(dǎo)體硅片、電子芯片等產(chǎn)品的拋光。
  


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